氮化鎵場效應(yīng)晶體管GaN FET是一種用于輸入電壓控制輸出電流的固體半導(dǎo)體器件,是以氮化鎵、鋁氮化鎵為基礎(chǔ)材料的場效應(yīng)晶體管。因具有好的散熱性能、高的擊穿電場以及高的飽和速度,相比與同等的硅場效應(yīng)晶體管,氮化鎵場效應(yīng)晶體管所具有的優(yōu)勢十分明星,柵極電容較低、柵極驅(qū)動電壓較低和額定電壓能力較高等,因此,在大功率高頻能量轉(zhuǎn)換和高頻微波通訊等方面有著廣闊的應(yīng)用前景。

現(xiàn)階段,以氮化鎵為基礎(chǔ),已經(jīng)制備出了金屬場效應(yīng)晶體管、異質(zhì)結(jié)場效應(yīng)晶體管、調(diào)制摻雜場效應(yīng)晶體管等新型器件。雖然這些器件都是在理想的狀態(tài)下制作的而成的,但是氮化鎵場效應(yīng)晶體管內(nèi)部不可避免會存在一些影響產(chǎn)品性能的缺陷,如原子在晶格結(jié)構(gòu)中發(fā)生位移。在剪切力作用下,如果多個位錯移動,那么沿著晶格平面的鍵會拉伸并最終破裂。因此,為了防止不良品進(jìn)入下一道生產(chǎn)工序,所以就需要借助檢測工具x光透視設(shè)備對氮化鎵場效應(yīng)晶體管的內(nèi)部結(jié)構(gòu)進(jìn)行全面的檢測,將存在缺陷的氮化鎵場效應(yīng)晶體管挑選出來,確保GaN FET的可靠性。

恒信彩x光透視設(shè)備發(fā)出波長短且有穿透力的x射線,射線透過氮化鎵場效應(yīng)晶體管GaN FET的過程中,會與物質(zhì)中的原子發(fā)生相互作用,引起輻射強度的衰減(衰減的程度與受GaN FET的厚度、密度和化學(xué)成分息息相關(guān))。如果GaN FET內(nèi)部存在某種缺陷,那么缺陷處以及周圍區(qū)域就可以看到射線強度衰減的差異。設(shè)備通過相關(guān)的手段,將缺陷位置標(biāo)記出來,將缺陷產(chǎn)品挑選出來。
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